华芯腾科技，一家在半导体领域屡创佳绩的专精特新企业，近日参加了在重庆举行的为期3天的第六届全球半导体产业与电子技术博览会。此次盛会汇聚了全球半导体产业的精英，而华芯腾科技则以一系列高品质、高技术的展品，赢得了同行业的广泛赞誉与关注。

一、参展全球半导体盛会，华芯腾科技大放异彩

作为全球半导体领域的盛事，本届博览会吸引了众多知名企业参展。华芯腾科技凭借其在半导体用高纯金属（尤其是高纯铜）领域的深厚积累与创新实力，成为此次博览会上的一大亮点。

二、高纯高导无氧铜亮相，展现卓越品质

在众多展品中，华芯腾科技的高纯高导无氧铜展品尤为引人注目，作为一种广泛应用于半导体及电子行业的极其重要的工业原材料 ，被誉为当今有色金属先进材料代表的一颗璀璨的明珠。 相对于普通的无氧铜，高纯，高导无氧铜的显著特点在于不仅铜的纯度更高，氧及其他气体元素含量极低，还具有更高的导电率，热导率，更低的电阻等优异的物理性能，被广泛应用于超纯铜合金制造，真空电子器件零部件，溅射靶材，新能源电机导体材料，光伏发电组件为代表的清洁能源部件等普通铜材无法胜任的先进制造工业用途中，为半导体和电子产业的创新发展提供了优质的原材料保障。

三、高纯铜溅射靶材受瞩目，彰显技术实力

此外，华芯腾科技还展出了其自主研发的高纯溅射靶材。华芯腾科技通过不懈的努力和技术创新，这些年在靶材先进生产工艺上实现了技术突破， 产品质量媲美欧美头部企业同类产品。首先，华芯腾在靶材生产所需的超高纯原材料方面，厚积薄发，通过不断推陈出新的工艺优化和技术创新，在国内率先开发出了超高纯铜原材料，铜的纯度达到 5N 和 6N,为后续靶材的生产提供了原材料纯度的品质保障。溅射薄膜的纯度与溅射靶材的纯度密切相关，为了满足半导 体更高精度、更细小微米工艺的需求，所需要的溅射靶材纯度不断攀升，甚至达 到 99.9999% (6N)纯度以上。其次，华芯腾科技的靶材在氮氧等气体元素，尤其 是氧含量的控制方面，达到了极致，在行业内首先做到了氧含量稳定小于 5ppm 的苛刻要求，实际氧含量在 2ppm 左右，为半导体磁控溅射对于靶材氧含量的极致苛刻要求提供了有利的保障。再者，华芯腾科技的靶材在晶粒粒径上能够确保小于50um，同时确保晶粒取向一致;该指标远远优于行业内的标准，并超越了欧美老牌企业的产品标准，赢得了业内人士的一致好评，成为半导体行业的新宠，为产业发展注入了新的活力。

四、引领行业发展趋势，华芯腾科技再攀高峰

华芯腾科技始终坚持创新驱动，致力于推动半导体产业的升级与发展。此次参展，不仅彰显了公司在半导体领域的领先地位，也预示着华芯腾科技将继续引领行业发展的新趋势，为全球半导体产业的繁荣做出更大贡献。

在未来，华芯腾科技将继续秉承“诚信、高效、创新、服务”的企业理念，不断推出更多高品质、高技术的产品，为全球半导体产业的持续发展贡献更多力量。让我们共同期待华芯腾科技在未来的精彩表现！